【簡介：】中國光刻機距離世界先進水平，還有較大的差距。
第一，目前全球最先進的光刻機，已經實現5nm的目標。這是荷蘭ASML實現的。
而ASML也不是自己一家就能夠完成，而是國際合作才能實現

中國光刻機距離世界先進水平，還有較大的差距。

第一，目前全球最先進的光刻機，已經實現5nm的目標。這是荷蘭ASML實現的。

而ASML也不是自己一家就能夠完成，而是國際合作才能實現的。其中，制造光源的設備來自美國公司；鏡片，則是來源于德國的蔡司公司等。這也是全球技術的綜合作用。

第二，中國進口最先進的光刻機，是7nm。

2018年，中芯國際向荷蘭ASML公司定制了一臺7nm工藝的EUV光刻機，當時預交了1.2億美元的定金。請注意，當時這臺機器還沒有交付，而是下訂單。

但國內市場上，其實已經有7nm光刻機。在2018年12月，SK海力士無錫工廠進口了中國首臺7nm光刻機。海力士也是ASML的股東之一。

第三，目前國產最先進的光刻機，應該是22nm。

根據媒體報道，在2018年11月29日，國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研制，光刻分辨力達到22納米。

請注意該報道的標題：“重大突破，國產22納米光刻機通過驗收。”

也就是22nm的光刻機，已經是重大突破。

22nm的光刻機，關鍵部件已經基本上實現了國產化?！爸锌圃汗怆娝舜瓮ㄟ^驗收的表面等離子體超分辨光刻裝備，打破了傳統(tǒng)路線格局，形成一條全新的納米光學光刻技術路線，具有完全自主知識產權。”

有關報道中的“全新的技術”，也就是中國科研工作者在關鍵部件完全國產化情況下，實現的這一次技術突破。